抛丸機(jī)的(de)工(gōng)作(zuò)原理(lǐ)和(hé)功能(nén ✘∞∏g)3。清潔工(gōng)件(jiàn)表面，加強工(gōng)件≤← (jiàn)表面，使表面處于壓力應力狀态。同時(shí)，抛丸機(jī)可(kě)以提高(gāo​≤λ)兩台抛丸機(jī)的(de)表面硬度。

　　抛丸機(jī)的(de)工(gōng)作(zuò)原理(lǐ)是(s→£×®hì)抛丸機(jī)的(de)主要(yào)部件(j≥÷↓₽iàn)。抛丸裝置由葉輪、分(fēn)丸輪、定向套筒、主軸等部件(jiàn)₹£λ↓組成。鋼球通(tōng)過自(zì)重從(cóng)漏鬥流入噴丸λ×☆₽輪，球輪以與主軸相(xiàng)同的(de)速度旋轉。在離(lí)心™§≤★力的(de)作(zuò)用(yòng)下(xià)，鐵(tiě)球被壓到(dào)定向套×β✘筒的(de)內(nèi)側。當鐵(tiě)球到(dào)達定向套筒的(de)開(kāi)口時(s©¥λhí)，高(gāo)速旋轉葉片從(cóng)開(kāi)口抛<®出，由內(nèi)向外(wài)邊緣葉片加速。最後，以60~80m/s的(de)速度♦↕φ∑将其風(fēng)扇到(dào)清潔部件(jiàn)，以清潔清潔部件(jiàn)​φ™的(de)表面。通(tōng)過調整定向套筒的(de <)開(kāi)口位置，可(kě)以改變鋼球的(de)方向，使抛出的(de)鐵(tiě)✘£↑α球盡可(kě)能(néng)地(dì)噴射到(dào)σ<÷♦清潔工(gōng)件(jiàn)上(shàng)。定向套筒位置不(bù)正确，不(b÷εù)僅降低(dī)了(le)抛丸效率，而且增加了(le)護闆的(de)磨損。定向套筒出口πγ¥的(de)尺寸會(huì)影(yǐng)響鋼球的(de)擴散角(風(fēng)扇的(d‌♠‌e)角度)。出口越大(dà)，擴散角越大(dà)，清洗效果→∏越差。

　　因此，定向套筒開(kāi)度磨損後，需要(yào)及時(shí)調整。當磨損量超過15m'←m時(shí)，需要(yào)更換。影(yǐng)響抛丸裝置清洗效率的(de)主要(yào↓₩)參數(shù)是(shì)抛丸速度和(hé)抛丸量。噴射速度越高(g<•↔āo)，沖擊力越大(dà)。随著(zhe)單位時(shí)間(jiā☆$πn)噴丸體(tǐ)積的(de)增加，抛丸工(gōng)← ÷具單位面積的(de)鐵(tiě)丸密度也(yě)增加。增加彈射速度距離(lí)的(d∑∏e)效果。當鋼丸從(cóng)抛丸裝置中抛出時(shí)，由于運動過程∞ε€中的(de)空(kōng)氣阻力，速度會(huì)逐漸降低(d∞σī)。一(yī)般來(lái)說(shuō)，每增加1米的(de)抛丸距離(lí↔≠™>)，球團動能(néng)損失增加約10%。清洗後，工(gōng)件(j€≥iàn)表面與噴丸裝置中心線之間(jiān)的(de)距離(lí)一(yī)般為(wèi£₹φ≤)0.7~1.5m。如(rú)果距離(lí)太近(jìn)，鋼丸的(de)彈痕​β太深，彈射面積太小(xiǎo)。如(rú)果距離(lí)太遠(yuǎn)，清洗效果會∑ β(huì)降低(dī)。介紹了(le)2分(fēn)離(lí)Ωφ器(qì)的(de)工(gōng)作(zuò)原理(lǐ)。

　　鬥式提升機(jī)流出的(de)顆粒和(hé)沙子(zǐ)的(de)混合物(wù)從(cóπδ$ng)隔離(lí)區(qū)的(de)底部螺旋輸送到(dào)隔離(lí)區(q∑ ū)的(de)上(shàng)部，底部的(de)螺釘沿隔離(lí)區(qū)的€¥≈λ(de)整個(gè)長(cháng)度均勻輸送，形成瀑布狀的(de)瀑布。它敢于成♣β為(wèi)緬甸的(de)中國(guó)自(zì)治區(qū)&★φ™，最初是(shì)緬甸共産黨的(de)執政區(qū)。1989±ε年(nián)，彭家(jiā)生(shēng)與仰光(guāng)政權達成協議(yì)，派遣部≤‌→←隊維護該地(dì)區(qū)的(de)和(hé)平，緩解了(le→')該地(dì)區(qū)的(de)緊張局勢。同時(shí)，除♦&↕塵風(fēng)機(jī)通(tōng)過分(fēn)離(lí)器(qì)的(de)出風(fē>"×ng)口排出空(kōng)氣，利用(yòng)重力空(©§kōng)氣有(yǒu)效地(dì)将顆粒、砂、金(jīn)屬氧化(huà)物(♠∏♥↑wù)鱗片、破碎顆粒和(hé)粉塵從(cóng)窗(cαλ€huāng)簾中分(fēn)離(lí)出來(lái)，然後通(tōng)過底部<γ屏幕進行(xíng)二次過濾，然後流入氣缸倉庫。儲存并進入回收的(de)下(xià)一(yī)≈±✘步。在下(xià)降過程中，由于顆粒比例和(hé)粒徑的(de)不(bù)ε& ☆同，顆粒混合物(wù)被水(shuǐ)平氣流推向顆粒，形成彎曲的(de)偏轉軌迹。